原标题：研晶光电 UVLED光固化市场巨大

LEDforum2015于2015年10月23日于台大国际会议中心举办，下午场次则以目前市场相当重视的利基市场作为主轴，包含紫外线、红外线、车用市场应用的机会与挑战。

光固化市场应用技术要求如下:

1.波长要求:高功率LED封装，需混合不同波长的UV-A LED (365nm / 385nm / 395nm / 405nm / 430nm)，面光源模块设计以达到均匀光。若一个LED光源不亮，将导致固化效果失败，这也是光源模块产品面临到最大的挑战之一。若需减少客制化大尺寸光源模块，可采用好几片小片的单片光源模块拼接，无缝隙拼接则为是相当主要技术。

2.光学设计:依产品对于均匀性或是照射工作距离要求，发光角度小于60°。

3.光强度:取决于工作距离 (1mm-150mm)，采用辐射照度 (W/cm2)计算，介于 4W-20W/cm2。

4.光均匀性:至少须达85%以上的均匀性。

5.冷却系统:依设备环境需求，采用水冷式或是气冷式。从冷却系统成本来看，LED 气冷式冷却系统较LED 水冷式冷却系统来的低，然而易积灰尘、噪音;水冷式冷却系统虽然可使用瓦数较高，但不可应用在无尘室之中。

UV LED应用于曝光机一直有相当的难度，主要因为 UV LED的光学设计不容易达到平行光。汞灯光线有办法透过玻璃管绕行，转为平行光，LED光线绕行就会持续减少亮度，造成不必要的损失。

1.光学设计:依产品对于均匀性或是平行光 (collimated light) 的要求，发光角度介于1°- 6°。

2.光强度:取决于工作距离 (50mm-150mm)，采用辐射照度 (W/cm2)计算，介于100mW-1W/cm2。

3.光均匀性:至少须达85%以上的均匀性。

研晶推出的 UV LED光学设计，利用特殊二次光学设计，目前也可达到小于2度的平行光，更具均匀性的光学设计，相当适合应用于PCB / LCD / IC曝光机。

以上种种光固化市场技术要求，都需要来回与客户紧密讨论，就算是同一种机台，也需要视客户环境而调整，是高度客制化的市场。